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ヤマナカヒューテック株式会社は高純度電子材料、シリコンウェハー、MEMSファンドリーサービス、蒸着材料(光学薄膜材料)、機能性材料等を多角的に取り扱う研究開発型企業です。

TEL. 075-721-5555

〒606-0804 京都市左京区下鴨松原町29番地

真空蒸着材料(光学薄膜材料)・スパッタリングターゲットDeposition materials & Sputtering targets

真空蒸着材料(光学薄膜材料)・スパッタリングターゲット

光学薄膜を形成するPVDプロセスのための真空蒸着材料(光学薄膜材料)・スパッタリングターゲットを販売しています。各種の酸化物材料、弗化物材料、硫化物材料、メタル材料などを取り扱っております。

各真空蒸着材料(光学薄膜材料)の特性はこちら
 石英(SiO2)リング
石英(SiO2)リング

酸化物材料

Al2O3, CeO2, Cr2O3, HfO2, ITO, La2O3, MgO, Nb2O5, NiO,SiO2, Ta2O5, TiO, TiO2, Ti3O5, Y2O3, WO3, ZrO2, ZrO2+α, etc.
・焼結顆粒品:0.5-1.5mm, 1-3mm, 2-5mm等 
・焼結成形品:ペレット状、ディスク状、アーチ型成形品等

弗化物材料

AlF3, CaF3, CeF3, GdF3, LaF3, LiF, MgF2, NdF3, YF3, etc.
・溶融破砕品:1-3mm等
・焼結顆粒品:1-3mm等
・焼結成形品:ペレット状等

硫化物材料

ZnS
・焼結顆粒品:1-3mm, 3-8mm等
・焼結成形品:ペレット状

※その他、各種混合物等ご相談に応じます。



 メタル材料(顆粒状)例
メタル材料(顆粒状)例

メタル材料

Ag, Al, Au, Cr, Ge, In, Ni, Pt, Si, Ta, Ti, Zr,
各種合金 etc.
・チャンク状、Wire-Cut状、鱗片状、塊状、
 ペレット状、ディスク状等

スパッタリングターゲット

材料:純金属、各種合金、酸化物、酸化混合物、弗化物、
   窒化物 等
形状:丸型、角型、円筒型 等
※バッキングプレートの作成、ボンディング加工を含めて
 ご対応いたします。

PVD材料&パーツ

バナースペース

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