ヤマナカヒューテック株式会社は高純度電子材料、シリコンウェハー、MEMSファンドリーサービス、蒸着材料（光学薄膜材料）、機能性材料等を多角的に取り扱う研究開発型企業です。
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真空蒸着材料（光学薄膜材料）・スパッタリングターゲットDeposition materials & Sputtering targets
真空蒸着材料（光学薄膜材料）・スパッタリングターゲット
光学薄膜を形成するPVDプロセスのための真空蒸着材料（光学薄膜材料）・スパッタリングターゲットを販売しています。各種の酸化物材料、弗化物材料、硫化物材料、メタル材料などを取り扱っております。
各真空蒸着材料（光学薄膜材料）の特性はこちら
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 石英（SiO2）リング |
酸化物材料Al2O3, CeO2, Cr2O3, HfO2, ITO, La2O3, MgO, Nb2O5, NiO,SiO2, Ta2O5, TiO, TiO2, Ti3O5, Y2O3, WO3, ZrO2, ZrO2+α, etc.・焼結顆粒品：0.5-1.5mm, 1-3mm, 2-5mm等 ・焼結成形品：ペレット状、ディスク状、アーチ型成形品等 弗化物材料AlF3, CaF3, CeF3, GdF3, LaF3, LiF, MgF2, NdF3, YF3, etc.・溶融破砕品：1-3mm等 ・焼結顆粒品：1-3mm等 ・焼結成形品：ペレット状等 硫化物材料ZnS・焼結顆粒品：1-3mm, 3-8mm等 ・焼結成形品：ペレット状 ※その他、各種混合物等ご相談に応じます。 |
 メタル材料（顆粒状）例 |
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メタル材料Ag, Al, Au, Cr, Ge, In, Ni, Pt, Si, Ta, Ti, Zr,各種合金 etc. ・チャンク状、Wire-Cut状、鱗片状、塊状、 ペレット状、ディスク状等 |
スパッタリングターゲット材料：純金属、各種合金、酸化物、酸化混合物、弗化物、窒化物 等 形状：丸型、角型、円筒型 等 ※バッキングプレートの作成、ボンディング加工を含めて ご対応いたします。 |
