Si半導体用液体材料／薄膜電子材料

半導体製造に使用されるガス及び液体材料は各種ありますが、ヤマナカヒューテックではシリコン酸化膜材料、low-k材料、拡散材料など、シリコン半導体に向け成膜材料を主にラインナップしております。

中でもTEOSは化学気相蒸着（CVD）によって低温かつSi以外の基板上にシリコン酸化膜を成膜できる特徴があるため、シリコン半導体やFPD（フラットパネルディスプレイ）の絶縁膜の形成の際に用いられています。
弊社では国内外の半導体メーカーへ長年TEOSを安定供給してきた歴史・実績があります。