真空蒸着材料・スパッタリングターゲット
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光学薄膜を形成するPVDプロセスのための真空蒸着材料（光学薄膜材料）・スパッタリングターゲットを販売しています。各種の酸化物材料、弗化物材料、硫化物材料、メタル材料などを取り扱っております。
酸化物材料
Al2O3, CeO2, Cr2O3, HfO2, ITO, La2O3, MgO, Nb2O5, NiO,SiO2, Ta2O5, TiO, TiO2, Ti3O5, Y2O3, WO3, ZrO2, ZrO2+α, etc.
- 焼結顆粒品：0.5-1.5mm, 1-3mm, 2-5mm等
- 焼結成形品：ペレット状、ディスク状、アーチ型成形品等
弗化物材料
AlF3, CaF3, CeF3, GdF3, LaF3, LiF, MgF2, NdF3, YF3, etc.
- 溶融破砕品：1-3mm等
- 焼結顆粒品：1-3mm等
- 焼結成形品：ペレット状等
硫化物材料
ZnS
- 焼結顆粒品：1-3mm, 3-8mm等
- 焼結成形品：ペレット状
※その他、各種混合物等ご相談に応じます。
メタル材料
Ag, Al, Au, Cr, Ge, In, Ni, Pt, Si, Ta, Ti, Zr,各種合金 etc.
- チャンク状、Wire-Cut状、鱗片状、塊状、ペレット状、ディスク状等
スパッタリングターゲット
- 材料
- 純金属、各種合金、酸化物、酸化混合物、弗化物、 窒化物 等
- 形状
- 丸型、角型、円筒型 等
※バッキングプレートの作成、ボンディング加工を含めてご対応いたします。