各蒸着材料(光学薄膜材料)の特性
品名 | 和名 | 英語名 | 屈折率 (550nm近辺) |
蒸発方法 | 理論密度 (g/cm3) |
使用波長域 | 蒸発温度 (℃) |
融点 (℃) |
CAS NO. |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
Al2O3 | 酸化アルミニウム | Aluminium oxide | 1.63 | EB | 4.0 | 0.2~7μm | 2,050 | 2,015 | 1344-28-1 |
CeO2 | 酸化セリウム(IV) | Cerium(IV) oxide | 2 | EB | 7.3 | 0.4~16μm | 2,000 | 1,950 | 1306-38-3 |
Cr2O3 | 酸化クロム(III)(別名:三二酸化クロム) | Chromium (III) oxide (Cr2O3) | ― | EB抵抗加熱 | 5.21 | ― | 2,000 | 1,990 | 1308-38-9 |
HfO2 | 酸化ハフニウム | Hafnium dioxide | 1.95 | EB | 9.68 | 0.22~12μm | ― | 2,812 | 12055-23-1 |
La2O3 | 酸化ランタン[別名:酸化ランタン(III)] | Lanthanum oxide (La2O3) | 1.9 | EB抵抗加熱 | 6.51 | 0.3μm~ | 1,500 | 2,000 | 1312-81-8 |
MgO | 酸化マグネシウム | Magnesium oxide | 1.74 | EB | 3.65 | 0.2~8μm | 2,800 | 2,800 | 1309-48-4 |
Nb2O5 | 五酸化二ニオブ(別名:酸化ニオブ) | Diniobium pentaoxide [別名:Niobium oxide (Nb2O5)] |
2.3 | EB | 4.47 | 0.32~8μm | ― | 1,520 | 1313-96-8 |
NiO | 酸化ニッケル(III)(別名:酸化ニッケル) | Nickel monoxide[別名:Nickel oxide (NiO)] | ― | EB | 6.96 | ― | ― | 1,998 | 1313-99-1 |
SiO2 | 二酸化ケイ素 (別名:シリカ) |
Silicon dioxide (別名:Silica) |
1.46 | EB | 2.2 | 0.2~8μm | 2,000 | 1,600 | 7631-86-9 |
Ta2O5 | 酸化タンタル | Ditantalum pentaoxide[別名:Tantalum oxide (Ta2O5)] | 2.1 | EB | 8.73 | 0.4~10μm | 2,100 | 1,469 | 1314-61-0 |
TiO2 | 二酸化チタン[別名:酸化チタン(IV)] | Titanium dioxide | 2.3~2.55 | EB | 4.26 | 0.4~3μm | 2,000 | 1,640 | 13463-67-7 |
Ti3O5 | 酸化チタン(Ti3O5) | Titanium oxide (Ti3O5) | 2.3~2.55 | EB | 4.26 | 0.4~3μm | 2,000 | 1,640 | 12065-65-5 |
Y2O3 | 酸化イットリウム | Yttrium oxide | 1.87 | EB | 4.84 | 0.3~12μm | 2,400 | 2,410 | 1314-36-9 |
WO3 | 酸化タングステン (別名:三酸化タングステン) |
Tungsten oxide (WO3) | ― | ― | 7.15 | ― | ― | 1,473 | 1314-35-8 |
ZnO | 酸化亜鉛 | Zinc oxide | 2.1 | 抵抗加熱 | 5.47 | 0.4μm~ | 1,100 | 1,800 | 1314-13-2 |
ZrO2 | 酸化ジルコニウム(IV) | Zirconium(IV) oxide(別名:Zirconium oxide) | 2.05 | EB | 5.56 | 0.34~12μm | 2,700 | 2,677 | 1314-23-4 |
ZrO2+TiO2 | 酸化ジルコニウムと二酸化チタンの混合物 | ― | 2.1 | EB | 4.0 | 0.4~7μm | ― | 2,400 | ― |
品名 | 和名 | 英語名 | 屈折率 (550nm近辺) |
蒸発方法 | 理論密度 (g/cm3) |
使用波長域 | 蒸発温度 (℃) |
融点 (℃) |
CAS NO. |
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AlF3 | フッ化アルミニウム(別名:三フッ化アルミニウム) | Aluminium fluoride (AlF3) (別名:Aluminium trifluoride) |
1.38 | 抵抗加熱 | 2.88 | 0.2μm~ | ― | 1,294 | 7784-18-1 |
CaF2 | フッ化カルシウム | Calcium fluoride(別名:Calcium difluoride) | 1.23~1.45 | 抵抗加熱 | 3.18 | 0.15~12μm | 1,280 | 1,360 | 7789-75-5 |
CeF3 | フッ化セリウム(III) | Cerium trifluoride [別名:Cerium fluoride (CeF3)] |
1.63 | 抵抗加熱 | 5.8 | 0.3~5μm | 1,360 | 1,324 | 7758-88-5 |
GdF3 | フッ化ガドリニウム(III)(別名:フッ化ガドリニウム) | Gadolinium trifluoride [別名:Gadolinium fluoride (GdF3)] |
1.59 | 抵抗加熱 | ― | 0.3μm~ | ― | 1,230 | 13765-26-9 |
LaF3 | フッ化ランタン(III) (別名:フッ化ランタン) |
Lanthanum fluoride [別名:Lanthanum fluoride (LaF3)] |
1.59 | 抵抗加熱 | 5.9 | 0.22~14μm | 1,350 | 1,490 | 13709-38-1 |
LiF | フッ化リチウム | Lithium fluoride (LiF) (別名:Lithium fluoride) |
1.3 | 抵抗加熱 | 2.64 | 0.11~7μm | 840 | 842 | 7789-24-4 |
MgF2 | フッ化マグネシウム | Magnesium fluoride (MgF2)(別名:Magnesium fluoride) | 1.38~1.4 | 抵抗加熱 | 3.2 | 0.11~4μm | 1,270 | 1,260 | 7783-40-6 |
NaF | フッ化ナトリウム | Sodium fluoride | 1.29~1.3 | 抵抗加熱 | 2.79 | 0.2μm~ | 998 | 998 | 7681-49-4 |
NdF3 | フッ化ネオジミウム (別名:フッ化ネオジム) |
Neodymium trifluoride | 1.61 | 抵抗加熱 | 6.5 | 0.25μm~ | 1,410 | 1,410 | 13709-42-7 |
YF3 | フッ化イットリウム(III)(別名:フッ化イットリウム) | Yttrium trifluoride [別名:Yttrium fluoride (YF3)] |
1.5 | EB抵抗加熱 | 5.07 | 0.2~14μm | 1,100 | 1,152 | 13709-49-4 |
品名 | 和名 | 英語名 | 屈折率 (550nm近辺) |
蒸発方法 | 理論密度 (g/cm3) |
使用波長域 | 蒸発温度 (℃) |
融点 (℃) |
CAS NO. |
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ZnS | 硫化亜鉛 | Zinc sulfide | 2.3~2.4 | EB抵抗加熱 | 4.1 | 0.4~14μm | 1,100 | 1,020 | 1314-98-3 |